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精良設備

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  • 多弧離子鍍膜設備
  • 磁控濺射鍍膜設備
    • SKYVAC PlasArc? 950
    產品特點
    規(guī)格參數
    設備尺寸

    1.新一代弧源設計，具有更高的靶材利用率及更好的液滴控制；

    2.刀具，微型刀具，刀粒，模具及零件涂層生產的理想選擇；

    3.可對產品進行涂前氮化處理；

    4.可同爐沉積最多4種不同成分靶材材料；

    5.更高的產能（每天4爐);

    涂層產品
    技術介紹
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    納晶真空涂層技術（東莞）有限公司

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    總機：0769-81152564

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